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          離子鍍膜

          補(bǔ)充:0  瀏覽:7543  發(fā)布時(shí)間:2013-3-9


            離子鍍膜加工包括濺射鍍膜和離子鍍兩種方式。離子濺射鍍膜是基于離子濺射效應(yīng)的一種鍍膜方式,適用于合金膜和化合物膜的鍍制。
            離子鍍是在真空蒸發(fā)鍍和濺射鍍膜的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種鍍膜新技術(shù),將各種氣體放電方式引入到氣相沉積領(lǐng)域,整個(gè)氣相沉積過程都是在等離子體中進(jìn)行的。離子鍍大大提高了膜層粒子能量,可以獲得更優(yōu)異性能的膜層,擴(kuò)大了“薄膜”的應(yīng)用領(lǐng)域。是一項(xiàng)發(fā)展迅速、受人青睞的新技術(shù)。
            廣義來講,離子鍍膜的特點(diǎn)是:鍍膜時(shí),工件(基片)帶負(fù)偏壓,工件始終受高能離子的轟擊。形成膜層的膜基結(jié)合力好、膜層的繞鍍性好、膜層組織可控參數(shù)多、膜層粒子總體能量高,容易進(jìn)行反應(yīng)沉積,可以在較低溫度下獲得化合物膜層。

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